Beberapa zarah atau molekul gas yang tidak terkumpul boleh membawa akibat yang sangat serius dalam beberapa proses. Bayangkan apa bahaya yang boleh dilakukan oleh udara yang tercemar kepada pembuatan semikonduktor, cakera keras dan proses lain yang sangat sensitif.
Dalam pembuatan semikonduktor, kaedah pengeluaran maju bahagian hadapan menuntut bekalan udara yang sangat bersih dengan keperluan kebersihan yang sentiasa meningkat. Saiz zarah kritikal untuk persekitaran wafer kini berada di bawah 25 nm (2009) dan ramalan dibuat bahawa saiz ini akan terus mengecil ke arah 10 nm menjelang 2017. Pencemaran molekul bawaan udara (AMC) kini menjadi isu utama untuk semua fabrik mikroelektronik termaju. Pelbagai kesan AMC telah diperhatikan memberi kesan kepada hasil pengeluaran. Contohnya kakisan berasid cakera keras atau wafer, pemendapan organik boleh terkondensasi pada permukaan sensitif atau pendedahan kepada paras ammonia yang rendah semuanya telah ditunjukkan menjejaskan pelbagai langkah proses.
Inti bilik bersih ialah penapisnya, tetapi terdapat beberapa pertimbangan berkenaan klasifikasi bilik, pilihan penapis dan cara penapis mempengaruhi persekitaran.
SAF berada pada kedudukan yang baik untuk mengesyorkan penyelesaian terbaik untuk kawalan zarah dan AMC termaju berkat pengalaman lebih daripada 16 tahun dalam bidang kawalan pencemaran mikroelektronik dan semikonduktor, dan melalui penglibatan kami dalam Pelan Hala Tuju Teknologi Antarabangsa untuk Semikonduktor.
Penapis HEPA, ULPA dan molekul dihasilkan dalam persekitaran terkawal dalam loji yang diperakui ISO 9000 SAF. Kami boleh menghasilkan jenis penapis yang sama di beberapa tapak pembuatan. Kapasiti pengeluaran kami yang besar memastikan ketersediaan produk kami pada setiap masa di seluruh dunia.
Melindungi:
-
Wafer dan semikonduktor
-
Peralatan proses mikroelektronik
-
Pemacu cakera keras
-
Papan litar bercetak
-
Paparan panel rata
-
Panel solar